等離子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離子化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組織分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

等離子清洗機的工作原理：

等離子體是物質的一種存在狀態(tài)，通常物質以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態(tài)中存在下列物質：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產品表面．以達到清洗,樣品表面改性之目的。

等離子體的種類：

活潑氣體和不活潑氣體等離子體，根據產生等離子體時應用的氣體的化學性質不同，可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮氣（N2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）等，活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2）等，不同類型的氣體在清洗過程中的反應機理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強的化學反應活性

等離子清洗機 機理分析

通俗的講就是：等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。

等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起反應，不同氣體的等離子體具有不同的性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理

詳細的來解釋：電漿與材料表面可產生的反應主要有兩種，一種是靠自由基來做化學反應，另一種則是靠等離子作物理反應，以下將作更具體的說明

（1）化學反應（Chemical reaction）--高頻電源—低電場---大概60V左右激發(fā)

     在化學反應里常用的氣體有氫氣（H2）、氧氣（O2）、甲烷（CF4？）等，這些氣體在電漿內反應成高活性的自由基,這些自由基會進一步與材料表面作反應,其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學反應，在壓力較高時，對自由基的產生較有利，所以若要以化學反應為主時，就必須控制較高的壓力來近進行反應

（2）物理反應（Physical reaction）--低頻電源--高電場---大概1000V左右激發(fā)

主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子的共價鍵打開，由于離子在壓力較低時的均勻自由基較輕長，形成能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有利于撞擊，所以若要以物理反應為主時，就必須控制較低的壓力下來進行反應，這樣清洗效果較好