1、真空等離子技術:
這些等離子體在密閉的真空中產生(10 -3到10–9 bar)。與常壓條件下相比,每個單位體積中的微粒數較少,這樣就增加了粒子自由程長度,并相對減少了碰撞過程。因此,等離子體能量削弱的傾向減弱,可在空間內更廣泛地傳播。要制造真空腔體,需要使用功能強大的氣泵。真空等離子技術不具備在線聯動功能。
2、高壓等離子技術:
高壓等離子體由特殊的氣體放電管產生。這種等離子體對于表面處理來說并不重要。
3、電暈處理技術:
電暈處理是一種使用高電壓的物理工藝,主要用于薄膜處理。電暈預處理的缺點是,表面活化能力相對較低,而且處理之后的表面效果有時不夠均勻。薄膜的反面也會被處理,有時這是工藝要求需要避免的。而且,經由電暈處理得到的表面張力無法維持長時間的穩定性,經過處理的產品往往只能存放有限的時間。
常壓等離之處理技術:常壓等離子是在大氣壓條件下產生的。常壓等離子處理技術的成本低、性能好,因而作為真空等離子和電暈工藝的工藝替代和工藝提升,獲得了廣泛的應用。常壓等離子技術的一大優勢,在于其在線集成能力。作為一項工藝準則,這種技術能夠順利集成到現有的生產系統中。